ЭнергетикаМеталлургияХимия и нефтехимияГорнодобывающая отрасль, угольНефть и газАПК и пищевая промышленностьМашиностроение, производство оборудованияТранспортАвиация, аэрокосмическая индустрияАвто/МотоАудио, видео, бытовая техникаТелекоммуникации, мобильная связьЛегкая промышленностьМебель, лес, деревообработкаСтроительство, стройматериалы, ремонтДругие отрасли
|
…развитие и ускорение внедрения EUV-литографии. Корпорация Intel и компания Media Lario International S.A. (Италия), ведущий производитель высокоточных оптических компонентов, сообщили о двух соглашениях, направленных на разработку ключевых оптических компонентов для EUV-литографии (сверхжесткое ультрафиолетовое излучение). ✐ место для Вашей рекламы Соглашения, предусматривающие участие фонда Intel Capital в акционерном капитале Media Lario, а также коммерческое сотрудничество между сторонами направлены на ускорение исследований и разработок Media Lario в области EUV-литографии. Подробности соглашений не - сообщаются. Ожидается, что EUV-литография будет внедрена в промышленных масштабах к 2009 году, однако для своевременного развертывания этой технологии необходимо преодолеть ряд технических барьеров. В частности, необходимо научиться реализовывать чрезвычайно жесткие технические требования при производстве и изготовлении отражающих оптических компонентов высочайшего класса точности – то есть именно в той области техники, в которой специализируется компания Media Lario. Media Lario имеет более чем 10-летний опыт производства высокоточных оптических компонентов и систем на базе собственной технологии электроформовки. Фирменные технологии компании позволяют серийно выпускать отражающие оптические компоненты с беспрецедентно высоким качеством и доступной ценой. Среди многочисленных достижений компании Media Lario – ключевая роль компании в проекте XMM Европейского космического агентства, результатом которого стал запуск на орбиту в 1999 году самого мощного из когда-либо существовавших телескопов рентгеновского д- иапазона. «Заключенные соглашения помогут нам ускорить разработку и переход к серийному производству высокоточных зеркал и зеркальных систем для удовлетворения постоянно ужесточающихся требований современного и будущего литографического оборудования EUV-диапазона, – отметил доктор Джованни Ночерино (Giovanni Nocerino), президент и главный управляющий компании Media Lario. – Мы счастливы, что наши усилия по разработке оптических зеркальных систем для EUV-литографии получили поддержку корпорации Intel. Эта ценнейшая поддержка нашего сотрудничества с производителями литографического оборудования и источников излучения поможет своевременно вывести на рынок системы для EUV-литографии». «Разработка оптических технологий EUV-диапазона для создания экономически доступных источников излучения и литографических систем, необходимых для организации в 2009 году массового производства полупроводниковых компонентов с проектной нормой 32 нанометра – ключевая задача для корпорации Intel, – отметил Питер Силвермен (Peter Silverman), почетный сотрудник Intel и руководитель подразделения Lithography Capital Equipment Development корпорации Intel. – Нынешние соглашения позволят Media Lario сосредоточить усилия на разработке оптических технологий EUV-диапазона с необходимыми технологическими и экономическими характеристиками». Опубликовано: 1 марта 2004 г. Ключевые слова: нет
Извините, комментариев пока нет |
1999-2024 PressRoom. Материалы на сайте предназначаются для широкого распространения,
однако, при перепечатке пресс-релизов ссылка на pressroom.ru весьма желательна! |